產品詳情
標準版光纖光柵刻寫平臺
標準版光纖光柵刻寫平臺
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  技術原理:

本光纖光柵刻寫平臺采用的技術主要包括:紫外準分子激光器、載氫增敏技術、相位掩模板干涉成柵技術、幅度掩模板變跡切趾技術以及拉力波長調節技術。

  其刻寫光路為準分子激光器輸出的激光經過可調光闌、一對柱面鏡和小孔光闌組成的空間濾波及整形模塊后形成一個長方形均勻光斑。該光斑再經過幅度掩模板后形成與幅度模板形狀一致的光斑,并經過柱透鏡聚焦后經過相位掩模板,相位掩模板的±1級衍射形成干涉條紋。當該干涉條紋輻照具有光敏性的光纖一段時間后,就可以在光纖中形成不同強度的光纖光柵,最終光纖光柵的類型和參數將決定于光纖和干涉條紋的相對位置關系、相位掩模板的周期、輻照時間等因素。


        型號:JKWP-201A

   特點:全手動操作,適合科研

    平臺組成一覽:

    系統名稱
    功能描述和說明
    平臺基座
    能避免環境因素對平臺穩定程度的影響
    載氫光學增敏系統
    提供安全的載氫增敏解決方案
    光源系統
    作為光柵刻寫的UV光源,提供穩定的激光輸出
    紫外光路系統
    刻寫平臺的主要功能模塊
    光纖夾持模塊
    提供光纖大壓力無損光纖夾持,提供光纖手動調節的配套解決方案
    光柵測試系統
    分別提供能對1um;1.5um;2um波段的光纖光柵進行測試的系統
    退火消氫系統
    提供退火消氫解決方案
    光柵涂覆系統
    Vytran公司PTR-200-MRC系列光纖涂覆機
    封裝固化系統
    提供高效率金屬封裝完成方法
    刻寫管理系統
    聚科刻寫管理系統
    其他可選配件
    Vytran公司LDC-400光纖切割機;日本藤倉中斷光纖剝除儀;日本藤倉CT30光纖切割刀;日本藤倉FSM-80S光纖熔接機;品牌可選除濕機;品牌可選空調;品牌可選冰箱;
    培訓指導服務
    聚科平臺使用培訓指導服務

    注:以上規格為標準配置,可根據客戶具體需求,提供定制產品。


    具體使用簡介:

    本平臺選用國產精密隔振光學平臺作為基礎,完美的避免了環境因素對平臺穩定程度的影響。本平臺的光路系統全部可以依照您的要求進行定制,并全部可以自主調整,為您的科研之路帶來最大限度的自由選擇。

    本平臺主要應用于科研,特別選擇了聚科光纖大壓力無損光纖夾持及光纖手動調節的配套解決方案。

    而在其他配件方面,我們為您選配了由國際頂尖激光器廠家提供的準分子激光器;美國vytran公司提供的PTR-200-MRC系列光纖涂覆機和LDC-400光纖切割機;由日本藤倉公司提供的中斷光纖剝除儀、CT30光纖切割刀、FSM-80S光纖熔接機;由國內廠商提供的高溫烘箱;將組成光纖光柵的各種處理流程。

    對于每個平臺,我們都將提供一次1/人次培訓指導服務,培訓以實際學會光纖光柵刻寫平臺的使用為準。




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